深圳某半导体技术基带芯片研发厂，晶圆生产制作过程中 中产生含硅、氟的特俗化工化工废水，装修设计外理大规模1200吨/日。化工化工废水有效成分简化，具有纳米级级硅颗粒物及氢佛酸，过去外理方式 不可达到。 焦化废水基本成分及从何而来 首要的挥发性有机物 ：胶体溶液硅（100-500nm粒级）、氟化合物（200-300mg/L）、异丙醇 由来流程 ：晶圆刻蚀化工工业废水（45%）、CMP生物学自动化抛光技术剂化工工业废水（40%）、产品擦洗水（15%） 处理的工艺步骤 的创新选用"化学上的石雕文化沉淀+防化膜分离法"水平途径： 钙盐石雕文化沉淀 ：污泥脱水氯化钙剔除氟铝离子（合成CaF2滤渣） 斜板沉淀池响应 ：pp斜管沉淀池剂确保橡胶胶体部分硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm管径膜挪用微细颗料 反融入整体 ：脱盐率>98%，收购率75% 蒸发器晶粒 ：浓水段实现了氟化物零排出 终究成果 氟化物渗透压：<8mg/L（不低于各国考试内容一级规范标准10mg/L） 硅含量：<5mg/L 水影视资源使用率：70%中用保压塔皮肤补水 危废处理减轻：化掉沉渣量较常用加工制作工艺 限制60%