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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8英尺晶圆工作线配合的超去离子水体统,每一刻存在含硅废水操作150吨。废水操作中虽无巨资属,但硅含锌量高易水垢,且热敏电阻率需高达18MΩ·cm才华中水回用。原本的操作制作工艺没办法具备新制定的《电子器件工业生产水污染问题物释放规范标准》(GB39731-2020)越来越释放限制值。 废水处理材料结构特征 通常严重工业废气 :氢氧化铁硅(200-300mg/L)、颗粒剂硅(比表面积0.1-1μm) 层次性符合要求 :TOC<10μg/L,硼占比<5μg/L 水的硬度性状 :低导电率(<50μS/cm)但硅氧化物形态特征繁杂 加工加工制作工艺 施工顺序 科技创新选用"梯级膜区分+电去亚铁离子"搭档新工艺: 微滤预外理 :1μm陶瓷厂家膜阻拦大颗料硅,通量维护80LMH 亚铁离子变换不饱和树脂 :D201大孔树酯会抑制性溶解硅酸分子式 三级RO软件 :首先段收废率60%,2段适用高脱硼膜元器件 EDI电去阳离子 :电流值比热容2A/m²,持续不断清理的残留物阳离子 紫外光臭氧消毒 :254nm紫外光线分子量40mJ/cm² 技能突出点 搭建专业化阻硅剂(巧妙胺类复合材料物),延长膜的污染时期3倍 EDI控制模块创新技术流道设计方案,硅去掉率升降至99.8% 在线视频硅定量分析仪器(估测条件0.1-500μg/L)实现目标精准度保持 运转举措 经其三方协议检查测量: 总硅从280mg/L降下来0.05mg/L 硼的含量从8μg/L减至0.3μg/L 平台再利用率从原40%增加至68% 膜替换的周期加长至5年,年正常运作成本费用缩减35%

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